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        很多用戶發(fā)現(xiàn)，隨著使用時間的延長玻璃全自動上下片機出現(xiàn)的問題也越來越多，而且也越來越難以解決，比如他們在使用過程中遇到的清洗的問題，給他們帶來了很大的困擾，不知道該如何解決，因此特來向我們尋求幫助。
        玻璃全自動上下片機在行業(yè)中，起到了很大的作用，該設(shè)備的使用大大的縮短了所用的時間，而且還提高了效率給大家?guī)砹烁玫捏w驗。對于玻璃上片切割一體機來說的清洗也是很重要的環(huán)節(jié)。
簡單的清洗劑只能清除表面污垢，但卻無法清洗研磨粉等無機物；半水基清洗劑則不同，不但可以清洗瀝青等有機污染物，還對研磨粉等無機物有良好的清洗效果，從而大大減輕了后續(xù)清洗單元中水基清洗劑的清洗壓力。半水基清洗劑的特點是揮發(fā)速度很慢，氣味小。采用半水基清洗劑清洗的設(shè)備在第 一個清洗單元中無需密封冷凝和蒸餾回收裝置。但由于半水基清洗劑粘度較大，并且對后續(xù)工序使用的水基清洗劑有乳化作用，所以第二個操作是水漂洗，并且最 好將其設(shè)為流水漂洗。

國內(nèi)應(yīng)用此種工藝的企業(yè)不多，其中一個原因是半水基清洗劑多為進口，價格比較昂貴。從水基清洗單元開始，半水基清洗工藝同溶劑清洗工藝基本相同。在此不再贅述。玻璃上片切割一體機兩種清洗方式的比較溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。